第九十四章 芯片工艺（1 / 2）

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对于信越、lg化学的垂死挣扎，黄豪杰没有在意。

因为对于银河科技而言，硅片的面积已经失去了意义。

如果需要，中子星公司随时生产大面积的方晶片，所以就算是信越、lg化学他们研发出来1八英寸圆晶片，也于事无补。

中子星材料公司的方晶片全面领先圆晶片，是势不可挡的大势，他们的垂死挣扎不过是螳臂当车罢了。

现在黄豪杰正在银河科技的半导体研究所之中。

银河科技自己招聘的一百多个半导体专业的毕业生，加上五个从国内半导体企业挖过来的工程师或者研究员，加上张汝京带过来十几个工程师和研究员。

尽管银河科技的半导体研究所，现在只有一百多人，但是麻雀虽，五脏俱全。

黄豪杰看着有条不紊的半导体研究所满意的点了点头。

“李想，你们对于31搬运其他的芯片物质的机制，研究得怎么样”

李想提了提眼镜略带兴奋的回道：“这个31富勒烯可以搬运制作芯片的绝大部分原材料，其他一部分就算是不能搬运，我们也可以采用可以搬运的原材料进行替代。”

“非常好。”

“老板，我觉得你的这个发明可以获得炸药奖。”一个地中海研究员赞叹不已。

“炸药奖又如何我不需要这种东西。”黄豪杰不是真正的科班出身，对于炸药奖这种东西并没有太在意。

……一众研究员和工程师顿时无语凝噎，别人挤破脑袋都想获得炸药奖，自己老板倒好，一点都不在乎。

黄豪杰和一众工程师，正在研发一种有别于目前的芯片工艺的芯片制作工艺。

一般来说，芯片制造厂的制作芯片，都是直接从硅片厂购买硅片的，而不会自己生产。

芯片制造厂先会检查硅片，经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。

微影光刻工艺是一种图形影印技术，也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。

首先将光刻胶感光性树脂滴在硅晶圆片上，通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜，并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。

接下来就是紫外线曝光。

就单项技术工艺来说，光刻工艺环节是最为复杂的，成本最为高昂的。

因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大。

将涂好光刻胶的硅片放入步进重复曝光机的曝光装置中进行掩模图形的“复制”。

掩模中有预先设计好的电路图案，紫外线透过掩模经过特制透镜折射后，在光刻胶层上形成掩模中的电路图案。

一般来说，在硅片上得到的电路图案是掩模上的图案110、15、14，因此步进重复曝光机也称为“缩投影曝光装置”。

而决定步进重复曝光机性能有两大要素：一个是光的波长，另一个是透镜的数值孔径。

如果想要缩硅片上的晶体管尺寸，就需要寻找能合理使用的波长更短的光uv，极紫外线和数值孔径更大的透镜受透镜材质影响，有极限值。

溶解部分光刻胶，对曝光后的硅片进行显影处理。

以正光刻胶为例，喷射强碱性显影液后，经紫外光照射的光刻胶会发生化学反应，在碱溶液作用下发生化学反应，溶解于显影液中，而未被照射到的光刻胶图形则会完整保留。

显影完毕后，要对硅片表面的进行冲洗，送入烘箱进行热处理，蒸发水分以及固化光刻胶。

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